点击图片查看原图
“类金刚石膜层”详细介绍
纳峰真空镀膜（上海）有限公司，是一家表面处理服务公司！
公司成立于2002年9月，公司位于上海青浦区的科技创业中心，有自己的加工生产基地。它是由新加坡纳峰科技私人有限公司全额投资的子公司。
本公司采用新加坡母公司的最新FCVA专利技术及设备，为广大制造业厂商提供工艺先进的真空镀膜服务。
FCVA专利技术，全称＂过滤阴极真空电弧镀膜技术＂。它通过离子束刻预清洗，交叉电磁场过滤，沉积形成非晶态四面体碳钻石薄膜或其它金属膜、氧化膜。因而使被镀物的寿命质量有大幅度的提高。
FCVA真空镀膜技术使用于金属、陶瓷、玻璃等材料表面的镀膜处理。可广泛应用于半导体芯片的制造与IC封装；加工塑料、塑料注塑模具（手机注塑等）；PCB板材、铝材、铜材的钻头、铣刀、滚刀等刀具的保护镀膜；高精密模具的镀膜（五金冲压模具）；粉末冶金冲压模具；塑料压铸模的增硬镀膜；IT硬盘磁头及介质膜的镀膜等。它使产品质量提高，制造成本降低，工具使用寿命大大延长。应用领域十分广泛！！
TAC（类金刚石膜层硬度达92HRC、摩擦系数为0.08、光洁度非常好！
我们的宗旨：推广我们的FCVA技术，替客户节约成本！
技术介绍—FCVA
电弧蒸发沉积法（Arc-evaporation deposition）主要应用于为机械加工工具提供耐磨涂层。但是，镀膜过程中会产生大量的宏观粒子，膜层的质量得不到保证。为了解决这个问题，纳峰科技私人有限公司创新了FCVA镀膜技术。采用我们的专利技术可以生产出高质量的非晶四面体碳（ta-C）膜以及在较为严苛的条件下工作的膜层，例如金属、金属氧化物等其他硬质膜层。
在阴极真空电弧镀膜过程中，阴极电弧会发射出等离子束（参杂了宏观颗粒和中性原子）。电磁过滤弯管负责滤除那些不必要的宏观颗粒和中性原子，只有那些具有一定能量的离子可以到达基片。这个特别的技术可以产生硬度更高，密度更大，更纯净的薄膜。用FCVA方法镀出的薄膜：与基片结合力更高且具有良好的光学、化学、电子和机械性能；并且重复性好，完全满足各种实际生产要求。
除此之外，在镀膜过程中，基片的表面温度一般可以保持在70°C以下。因此，可以对塑料或橡胶进行FCVA镀膜。与传统方法（比如：化学汽相沉积法，物理汽相沉积法）不同，FCVA技术产生能量稳定的电弧和100%纯离子束流，能量可以根据不同的要求精确控制。通过这项科技我们可以生产独特的ta-C膜，并可产生高品质的Al2O3膜和金属膜。
纳峰真空镀膜（上海）有限公司是镀膜、Ta-c、Tin、ALTin、cr-n、MICC等产品专业生产加工的外资企业，公司总部设在上海市青浦区华纺路99弄99号，纳峰真空镀膜（上海）有限公司拥有完整、科学的质量管理体系。纳峰真空镀膜（上海）有限公司的诚信、实力和产品质量获得业界的认可。欢迎各界朋友莅临纳峰真空镀膜（上海）有限公司参观、指导和业务洽谈。
TA-C非晶态四面体碳膜
颜色黑色
硬度HV3000-5000
膜厚1.5um
摩擦系数0.1
制程温度80 oC
耐氧化温度300 oC
使用场合减少摩擦系数、脱模性佳，超高硬度，高耐磨性
应用工业注塑模具、IC、工具导线架模具、刀具、导杆、陶瓷膜、冲压模、光学成型模具、粉末冶金模具、CDR模。。。等。
氮化铝钛膜（ALTiN）
颜色：灰黑色
硬度 HV：3000-3500
膜厚：1-5um
摩擦系数：0.4
制程温度：450 oc
耐氧化温度：850-1000 oC
使用场合：抗磨耗、耐酸（氧）化
应用工业：
铝压铸模、玻璃成型模、高速干式切削用刀具、螺丝用冲模具。。。等。
氮化钛膜TiN：
颜色金黄色
硬度HV2200
膜厚1-4um
摩擦系数0.4
制程温度450 oC
耐氧化温度600 oC
使用场合抗磨耗
应用工业塑料模、切削刀具、铣刀、钻头、丝攻、螺丝帽、用模具冲具、生医零件、CDR模仁。。。等。
氮化铬膜CrN
颜色银白色
硬度HV1700
膜厚3-6um
摩擦系数0.3
制程温度300-450 oC
耐氧化温度800 oC
使用场合耐氧化。。。
公司成立于2002年9月，公司位于上海青浦区的科技创业中心，有自己的加工生产基地。它是由新加坡纳峰科技私人有限公司全额投资的子公司。
本公司采用新加坡母公司的最新FCVA专利技术及设备，为广大制造业厂商提供工艺先进的真空镀膜服务。
FCVA专利技术，全称＂过滤阴极真空电弧镀膜技术＂。它通过离子束刻预清洗，交叉电磁场过滤，沉积形成非晶态四面体碳钻石薄膜或其它金属膜、氧化膜。因而使被镀物的寿命质量有大幅度的提高。
FCVA真空镀膜技术使用于金属、陶瓷、玻璃等材料表面的镀膜处理。可广泛应用于半导体芯片的制造与IC封装；加工塑料、塑料注塑模具（手机注塑等）；PCB板材、铝材、铜材的钻头、铣刀、滚刀等刀具的保护镀膜；高精密模具的镀膜（五金冲压模具）；粉末冶金冲压模具；塑料压铸模的增硬镀膜；IT硬盘磁头及介质膜的镀膜等。它使产品质量提高，制造成本降低，工具使用寿命大大延长。应用领域十分广泛！！
TAC（类金刚石膜层硬度达92HRC、摩擦系数为0.08、光洁度非常好！
我们的宗旨：推广我们的FCVA技术，替客户节约成本！
技术介绍—FCVA
电弧蒸发沉积法（Arc-evaporation deposition）主要应用于为机械加工工具提供耐磨涂层。但是，镀膜过程中会产生大量的宏观粒子，膜层的质量得不到保证。为了解决这个问题，纳峰科技私人有限公司创新了FCVA镀膜技术。采用我们的专利技术可以生产出高质量的非晶四面体碳（ta-C）膜以及在较为严苛的条件下工作的膜层，例如金属、金属氧化物等其他硬质膜层。
在阴极真空电弧镀膜过程中，阴极电弧会发射出等离子束（参杂了宏观颗粒和中性原子）。电磁过滤弯管负责滤除那些不必要的宏观颗粒和中性原子，只有那些具有一定能量的离子可以到达基片。这个特别的技术可以产生硬度更高，密度更大，更纯净的薄膜。用FCVA方法镀出的薄膜：与基片结合力更高且具有良好的光学、化学、电子和机械性能；并且重复性好，完全满足各种实际生产要求。
除此之外，在镀膜过程中，基片的表面温度一般可以保持在70°C以下。因此，可以对塑料或橡胶进行FCVA镀膜。与传统方法（比如：化学汽相沉积法，物理汽相沉积法）不同，FCVA技术产生能量稳定的电弧和100%纯离子束流，能量可以根据不同的要求精确控制。通过这项科技我们可以生产独特的ta-C膜，并可产生高品质的Al2O3膜和金属膜。
纳峰真空镀膜（上海）有限公司是镀膜、Ta-c、Tin、ALTin、cr-n、MICC等产品专业生产加工的外资企业，公司总部设在上海市青浦区华纺路99弄99号，纳峰真空镀膜（上海）有限公司拥有完整、科学的质量管理体系。纳峰真空镀膜（上海）有限公司的诚信、实力和产品质量获得业界的认可。欢迎各界朋友莅临纳峰真空镀膜（上海）有限公司参观、指导和业务洽谈。
TA-C非晶态四面体碳膜
颜色黑色
硬度HV3000-5000
膜厚1.5um
摩擦系数0.1
制程温度80 oC
耐氧化温度300 oC
使用场合减少摩擦系数、脱模性佳，超高硬度，高耐磨性
应用工业注塑模具、IC、工具导线架模具、刀具、导杆、陶瓷膜、冲压模、光学成型模具、粉末冶金模具、CDR模。。。等。
氮化铝钛膜（ALTiN）
颜色：灰黑色
硬度 HV：3000-3500
膜厚：1-5um
摩擦系数：0.4
制程温度：450 oc
耐氧化温度：850-1000 oC
使用场合：抗磨耗、耐酸（氧）化
应用工业：
铝压铸模、玻璃成型模、高速干式切削用刀具、螺丝用冲模具。。。等。
氮化钛膜TiN：
颜色金黄色
硬度HV2200
膜厚1-4um
摩擦系数0.4
制程温度450 oC
耐氧化温度600 oC
使用场合抗磨耗
应用工业塑料模、切削刀具、铣刀、钻头、丝攻、螺丝帽、用模具冲具、生医零件、CDR模仁。。。等。
氮化铬膜CrN
颜色银白色
硬度HV1700
膜厚3-6um
摩擦系数0.3
制程温度300-450 oC
耐氧化温度800 oC
使用场合耐氧化。。。