去光阻液，电子级去光阻液，成分用途性能图片厂家价格(苏州博洋)

认证：	ISo9000/14000/18000	化学成分：	有机缓蚀剂
类型：	混合型缓蚀剂	保护膜类型：	氧化膜型
形态：	液态	型号：	EL级，AR级
规格：	EL级，AR级	商标：	博洋
包装：	可定制

去光阻液，电子级去光阻液，成分用途性能图片厂家价格(苏州博洋)
去光阻液，电子级去光阻液，成分用途性能图片厂家价格(苏州博洋)
   
    去光阻液：一种用于去除光阻残留物的清洗液。该去除光阻残留物的清洗液含有季胺氢氧化物，醇胺，溶剂以及聚醚改性有机硅。该清洗液能够更为有效地去除晶圆上的光阻残留物，在半导体晶片清洗等领域具有良好的应用前景。
在通常的半导体制造工艺中，通过在一些材料的表面上形成光刻胶的掩膜，曝光后进行图形转移，在得到需要的图形之后，进行下一道工序之前，需要剥去残留的光刻胶。在这个过程中要求完全除去不需要的光刻胶，同时不能腐蚀任何基材。

主要用途：有机合成原料，有机溶剂，电子工业清洗剂
包装：25L/桶、4L/桶，也可以按客户要求定制包装。


苏州博洋化学股份有限公司
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