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溅射铬靶

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最后更新: 2017-12-15 11:07
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产品详细说明

“溅射铬靶”详细介绍

  品名:铬靶(Cr Target)

  规格:各种尺寸加工定制(可倒斜角),

  纯度:>99.5%、99.9%;

  表面:抛光、磨光;

  用途:主要用于STN、tft、Ai、TP等磁控溅射镀膜;也用于制不锈钢,汽车零件,工具,磁带和录象带。

  铬靶

  元素符号Cr,银白色金属,在元素周期表中属

  VIB族,铬的原子序数24,原子量51.996,体心立方晶体,常见化合价为+3、+6和+2.

  银白色金属,质极硬,耐腐蚀。

  密度:7.20克/cm3.

  熔点:1857±20℃,

  沸点:2672℃。

  金属铬在酸中一般以表面钝化为其特征。一旦去钝化后,即易溶解于几乎所有的酸中。在高温下被水蒸气所氧化,在1000℃下被一氧化碳所氧化。在高温下,铬与氮起反应并被碱所侵蚀。可溶于强碱溶液。铬具有很高的耐腐蚀性,在空气中,即便是在赤热的状态下,氧化也很慢。不溶于水。镀在金属上可起保护作用。

  物理性质:

  铬是银白色有光泽的金属,纯铬有延展性,含杂质的铬硬而脆

  金属铬;铬(微晶);铬粉;铬粒;铬片;铬单晶片;

  铬溅射耙材

  铬靶的尺寸

  尺寸01:直径<360mm 厚度>1mm(圆片/圆台/圆棒);

  尺寸02:长度<700mm 宽度<300mm 厚度>1mm 矩形/片材/台阶状(可拼接);

  尺寸03:外直径<360mm 内直径>1mm 壁度>1mm 长度>1mm(管材/圆环/旋转靶材)

  铬靶的用途

  工业级镀膜,实验或研究级别用铬靶材,电子,光电,军工,装饰,功能薄膜
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